高精度痕量气体分析仪（TGA-321）是一款专为半导体行业空气分子污染分析（AMC）测量氨气(NH3)而设计的专业仪器，采用光腔衰荡光谱技术（CRDS），具有很高的灵敏度，其检测下限可达ppt级别。不需要现场校准，非常适合连续测量。
该分析仪内部管路都进行了特殊涂层，可以有效的减小氨气(NH3)分子在管道壁上的吸附，加速测量的响应时间并消除测量偏差。同时分析仪采用小体积腔设计，能够进一步提升测量速度。
腔衰荡光谱（CRDS）与离子迁移谱（IMS）和离子色谱传统技术相比，具有探测下限低、响应速度快、无需耗材等显著优势，该分析仪具有更优的长期稳定性和低维护性，是半导体行业AMC连续监测的理想选择。
系统特点
ppt级别的灵敏度、精度以及准确度；
免标定，低漂移；
响应速度快；
连续监测；
无耗材成本。
性能指标
NH3
精度（1σ,10 秒 /100 秒）
＜ 300ppt/100ppt
检测下限（3σ,100 秒）
300ppt
线性
±1%
零点准确度
±100ppt
响应时间 (T90/10+T10/90)
＜ 180 秒
量程范围
0 ～ 10ppm
其他性能参数
测量技术
光腔衰荡光谱（CRDS）技术
光腔温度控制
±0.005℃
光腔压强控制
±0.0002atm
采样流量
＜ 2slm
进气接口
¼ 英寸 Swagelok®
环境温度
15 ～ 35℃（工作）， -10 ～ 50℃（储存）
环境湿度
＜ 99%RH（无冷凝）
通信接口
RS232 、USB、以太网
交互界面
7 寸液晶触摸屏
电源
85 ～ 264VAC ，50/60Hz
总功耗
70W（分析仪） +300W（外置泵）
安装形式
工作台式或 19 英寸机架式
仪器尺寸
（178×432×602）mm（H×W×D）
重量
≤28.05kg（包括外置泵）
配件（随附）
外置真空泵，客户端分析软件
京公网安备 11010802025807号
